众所周知最先进的光刻机是由荷兰生产的 ,而且独此一家,我国在光刻机领域可以说是落后20年都不为过。但是与光刻机同等重要的刻蚀机,我国却突然走到世界前列。
据IC Insights的数据,时至今日,蚀刻设备的国产化率已经达到20%以上,而且国产蚀刻机的市场规模也在随着中国半导体市场规模的扩张不断提升。截至2019年,中微半导体掌握了多款具有自主知识产权的芯片设备,在全球范围内申请的专利数量达1200多项。
站在全球市场的角度来看,虽然美国泛林半导体、应用材料以及日本的东京电子这三家顶尖的蚀刻机公司占据了94%的市场。但除了日美三巨头之外,中国的蚀刻机龙头企业中微半导体,也处于业界领先地位。公开资料显示,中微半导体正式成立于2004年,至今为止已有16年的发展史。
中国目前刻蚀机研发中,处于世界领先水准,其中中微半导体的已经造成5nm介质刻蚀机,供货给台积电,值得一提的是,中微半导体也是唯一进入台积电7nm制程蚀刻设备的大陆本土设备商。据悉,中微半导体与台积电在28nm制程时便已开始合作,并一直延续到10nm和7nm制程。中微尹志尧博士的团队在气体喷淋盘上耗费了很大精力去钻研。另外包括功率电源、真空系统、刻蚀温度控制等,这些都影响刻蚀结果。
近日,国产芯片行业传来消息,中微3nm 刻蚀机 Alpha 原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估也已完成,进入了量产阶段,可以说领先世界,之前,中微的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。
其实掌握蚀刻机制造技术对于中国半导体芯片制造而言同样具有重要意义。在这一方面不同于光刻机领域,蚀刻机是目前我国最具优势的半导体设备领域。
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