刻蚀机可以代替光刻机吗 刻蚀机相对简单

关于光刻机相信大家都已经了解的不少了，但是它他相近的刻蚀机你又了解多少呢？其实刻蚀机技术要比光刻机简单，那么为什么不用刻蚀机替代光刻机呢？下面了解一下原因。

从源头延伸，谈光刻机那就一定要了解ASML（阿斯麦），以目前的情况来讲这家荷兰企业，称得上是全球光刻机生产企业的独角兽，最高端及最先进的光刻机，都是由这家公司生产的，像台积电、三星、英特尔甚至华为这样国内顶尖的科技企业，都对其有所依赖。

但是在大家将目光的关注点都放在光刻机上的时候，一定要了解在芯片制造过程当中，其实还有一件设备起到关键性作用，这种设备和光刻机类似，那就是刻蚀机，可能很多人对光刻机的了解，要远远高于刻蚀机，但这并不足为奇。

光刻机是芯片制造行业的主要载体。他的工作原理是在硅片上涂上一层均匀的光刻胶，然后利用紫外线照在上面，其中还包含了编码，把需要刻制的东西编码完成，用光刻技术刻到上面。从而达到保存的效果。光刻机上面是光照部，中间是掩膜版，最后是需要刻制的载体。

光刻机发展至今，目前已经有了很多种形式，但工作原理大同小异，没什么区别。而且国内现在已经有了自主产权，发展前景很不错。

蚀刻机与光刻机比起来就有些粗糙了，他是直接把内容刻在载体上，对载体表面进行侵蚀从而达到刻录的目的。目前国内的蚀刻机有两种，干刻和湿刻，但是工作原理都相同，利用离子与电压的结合，达到刻录的目的。

总的来说，两种刻制方式都是主流的形式，但刻蚀机是不可能代替光刻机的，刻蚀机相对光刻机来说要比较容易一些。