刻蚀机是干什么用的 不只应用在芯片制造

关于芯片的制造很多人只知道光刻机是很重要的设备，其实刻蚀机在芯片制造过程中的重要性也不容小觑，除此之外刻蚀技术还在很多方面有应用。

通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护摸去处，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量，仪器镶板，名牌及传统加工法难以加工之薄形工件等之加工。

刻蚀技术在当前经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

蚀刻机主要负责把复制到硅片上的电路结构进行微雕，雕刻出沟槽和接触点，为线路提供空间。半导体工艺流程主要包括单晶硅片制造、IC设计、IC制造和IC封测等环节。在每个工艺环节中，都需要大量的软件和硬件设备。

单晶硅片制造需要单晶炉等设备，IC制造需要光刻机、刻蚀机、薄膜设备、扩散\离子注入设备、湿法设备、过程检测等六大类设备。其中，光刻机、刻蚀机、薄膜设备为最主要的设备。

刻蚀机分为干刻、湿刻两种。其中湿刻一般依靠化学方法，需要有化学液体的参与；而干刻的过程则没有液体参与。目前，主流采用的就是等离子体干法刻蚀技术。

蚀刻就是是利用化学感光材料的光敏特性，在基体金属基片两面均匀涂敷感光材料；采用光刻方法，将胶膜板上栅网产品形状精确地复制到金属基片两面的感光层（掩膜）上；通过显影去除未感光部分的掩膜，将裸露的金属部分在后续的加工中与腐蚀液直接喷压接触而被蚀除，最终获取所需的几何形状及高精度尺寸的产品。

刻蚀技术在工业上有很广泛的应用，尤其是在半导体芯片制造上，我国更是在半导体芯片领域将光刻机技术推上了世界的前列。