光刻机与刻蚀机是一回事吗 光刻机和刻蚀机区别很大

对芯片和半导体有所了解的人一定知道光刻机和刻蚀机，刻蚀机和光刻机并不是两个对立的产品，而是半导体制造过程中都要使用的两个重要设备。

光刻机是利用光刻的原理设计的，其工作原理就是通过一系列光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模板，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片表面上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

光刻机可以分为接近接触式光刻、直写式光刻、以及投影式光刻三大类。接近接触式通过无限靠近，复制掩模板上的图案；投影式光刻采用投影物镜，将掩模板上的结构投影到基片表面；而直写，则将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。光学投影式光刻凭借其高效率、无损伤的优点，一直是集成电路主流光刻技术。

光刻机被誉为半导体制造业皇冠上的明珠，其技术含量和价值含量都极高。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价值量，目前世界上最先进的 ASML EUV光刻机单价可达上亿欧元，可满足 5nm 制程芯片的生产。

刻蚀机实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。随着微制造工艺的发展；广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。

可以说两者一个是设计者，一个是执行者，整个芯片生产过程中，需要重复使用两种设备，直至将完整的电路图蚀刻到硅晶圆上为止。

近日，有媒体报道称国内半导体巨头之一中微半导体已成功研制出3nm刻蚀机，并且完成了原型机的设计、制造、测试以及初步的工艺开发和评估，更引人关注的是该刻蚀机已经进入量产阶段了。之前我国刻蚀机已经达到5nm刻蚀机并交给台积电测试使用了。

如果将光刻机和刻蚀机做一个比喻的话，刻蚀机像一个雕工，而光刻机像一个画工，其中画要比雕难得多，这也是为什么全球只有一家公司能生产出高端的光刻机。