中国光刻机与荷兰差距 技术上还要追赶20年

此前芯片行业受打压让国人明白了光刻机的重要性，开始对我国的光刻机进行关注，那么我国的光刻机和世界上最先进的荷兰ASML光刻机之间有多大的差距呢？

众所周知我国半导体产业起步较晚，并且在半导体产业发展初期，国内厂商深受造不如买，买不如租的思潮影响，只看重短期利益，不顾长期收益。这导致我国在半导体产业起步发展阶段原地踏步了很长一段时间，也是我国半导体产业落后于国际的根本原因。

荷兰的芯片公司制造大部是来源于他们的ASML，而关于芯片的制造技术上他们有超强实力EUA光刻机的支持，这一台光刻机的技术研制领域是非常超前的，再加上荷兰这一公司本来就有这很多方面的支持，所以在光科机的研制上也有着巨大的提升，他们公司能够制造的芯片能够达到5纳米，而这样的技术在全球范围内来说，都是最为领先的。

早在2007年以前，在光刻机领域，尼康、佳能就是当时的王者，ASML则是不入流的跟随者，ASML跟在尼康、佳能后面，徘徊了20年。而反观国内，由于起步较晚，上海微电子装备公司在起步晚、技术薄弱的情况，还是研发生产了90纳米制程的光刻机。

4月下旬，中芯国际联合CEO赵海军在中国工程院信息与电子工程前沿论坛上指出：荷兰光刻机巨头阿斯麦首席技术官曾说，国产光刻机与海外之间的技术差距大概是20年。

目前我们从最新媒体报道来看，国内实力最雄厚的上海微电子将会在今年交付首台28nm国产浸润式光刻机，这意味着我们的国产光刻机技术差距将会被进一步缩小，但想要在短时间内追赶上荷兰ASML公司，显然也是一件不可能的事情。

由于国外对中国进行禁运，我国现有光刻机不得不使用国产核心组件，而这也是与荷兰ASML差距较大的原因之一，很多的核心组件都无法和国外厂商的配件相比。目前国内这块最大的差距是移动精度控制，其次是光学系统，比如激光光源等。

由此可见，我国的光刻机发展还有很长路要走，不论是技术上受阻还是零件制作无法达标，相信并不会像他人所说需要20光景，这一天一定会提前到来。