光刻机是信息时代中最重要的母机,其制程越小证明其科技水平越高,制造出来的芯片也会更小。能造出光刻机的国家不多,但是能做出5纳米光刻机的却只有一家。
说起ASML这家荷兰光刻机公司,很多人都不陌生。原因在于,中芯国际想向该公司购买一台1.5亿美元EUV光刻机,但耗费了两年时间,至今尚未成功。据悉,该公司是全球唯一一家高端光刻机制造商,每年仅出20台左右高端设备,每一台都被台积电和三星等大型芯片代工厂抢破了头。
而荷兰ASML是全球唯一一个能够生产高端光刻机设备的企业,目前,阿斯麦能够制造出的最先进的光刻机当属EUV光刻机,这台光刻机能够生产出5nm制程的芯片。
对于日本企业而言,目前有佳能和尼康两家企业能够生产相关的光刻机设备,但也最好的水平也只有14nm水平(尼康生产),而佳能只能够量产90nm的光刻机设备。
对于我国的上海微电子而言,目前也只能够量产90nm的光刻机设备,处于最低端的水平,与荷兰ASML公司之间,也是有着将近十年左右的技术差距。
为了将5纳米的光刻机顺利的研究出来,仅仅是美国一个国家就投入了超过50个顶级科研团队用了20多年的时间不间断地进行研究。欧洲诸国、日韩虽然投入没那么大,但那是相对来说也算得上是在正确的时间做了正确的事情。但是我们国家的光刻机技术却在190纳米左右的程度停滞了二十年之久,目前最好也只是90nm。
其实对于尼康、佳能、上海微电子这些光刻机企业,之所以无法追赶荷兰ASML公司,很大程度上也是因为,荷兰ASML公司几乎集结了全球最顶尖的供应链厂商,所以在光刻机最为核心的光源、技术、装配工艺、经验等方面,都能够使用到最顶级的技术和设备,同时还能得到台积电、三星这些芯片代工巨头的参与调试,让ASML所生产的光刻机设备达到最佳的精度。
我国目前的现状就是面对世界的封锁,摸着石头过河,国产光刻机能达到10nm以下的时候可能会在未来10年甚至20年,虽然过程艰辛复杂耗时长,但偌大一个国家绝不能被别人牵着鼻子走。
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