光刻机的技术难在哪里 给你图纸都造不出来

我国芯片受西方国家打压后，明白了光刻机的重要性，但是光刻机作为这个时代顶尖的科技产品，并不是那么容易造出来的。

首先，光刻机的投影物镜被誉为成像光学的最高境界，其波像差需要控制到亚纳米量级，接近零像差。这个“零像差”是大视场、高数值孔径、短波长条件下的“零像差”，是在曝光过程中投影物镜持续受热状态下的“零像差”。实现这个“零像差”对投影物镜的镜片级检测、加工、镀膜，系统级的检测、装校，以及投影物镜像差的在线检测与控制都提出了极为严苛的要求。

光刻机整机与分系统汇聚了光学、精密机械、控制、材料等众多领域大量的顶尖技术。很多技术需要做到工程极限。另外，光刻机各个分系统、各个子系统要在整机的控制下协同工作，达到最优的工作状态，才能满足光刻机严苛的技术要求。

世界上最先进的光刻机当属荷兰的ASML，但是目前连它本身有很多零部件他们自己也无法生产，很多高端零部件都是从美国、德国、日本等国家进口的，比如目前ASML的镜头是由德国的蔡司提供，电源是由美国的一家公司提供。

简单来说目前国产光刻机很多部件工艺达不到，这也是德国工程师所说那样给你们全套图纸你们也做不出来。他所说这句话就是基于我们很多部件工艺达不到，想要制造高端光刻机，相应的部件工艺就要达到一定水平。而目前卡住的正是部件生产工艺，国内相关部件工艺达不到。

而我国受到美国的技术封锁影响，我国目前想要自研出高端光刻机是相当困难的。世界上很多国家虽然有足够先进的芯片技术，但是大多不愿意与中国进行相关方面的交流。不仅如此，他们甚至直接明令禁止，不可以向中国出售高尖端芯片，包括ASML的高端光刻机，这就使得我国的芯片技术以及光刻机生产一直得不到很好的进展。

由此可见，作为目前地球上最顶尖的设备之一，光刻机技术不是一年半载就能够制造出来的，它的制造需要有长时间的技术积累和沉淀，同时需要有多个国家和企业的共同合作才有可能完整。