中国光刻机的新突破 清华大学获得光刻机光源新进展

众所周知，目前我国芯片发展被别人牢牢扼住了喉咙，而光刻机在芯片的制造过程中是重中之重，但是我国科研人员从未停止脚步，中国光刻机最近有了新突破。

首先我们了解一下光刻机为什么难造。技术被“封锁”。我国一路走来，没少遭到打压，技术封锁这样的新闻，似乎平常的都不叫新闻，而是老生常谈的旧闻了。目前光刻机的技术，荷兰是最有发言权的，如果我们可以与之达成合作，那必然可以加速我国芯片研究的进程。可是国与国之间的合作不是那么简单，由于美国的压制，相关技术被封锁的死死的。

中国近些年的发展神速，其实很大程度上来源于起初的引进之后再仿造，可是由于我国在该领域已经落后了几十年，没有参照物仿照如何展开？从一张白纸到精彩纷呈很难，况且还是近乎“独闯天下”，自然是难上加难。

一台ASML光刻机有着大大小小8万个左右的零部件，其涉及到的技术也是诸多科研公司结合之后的结果。有人形容ASML光刻机，是集合了人类高智慧的一个作品，甚至它本身就是一个艺术品。就算找到了某一下技术公司合作，也只是一方面的接触，并不能在这个技术集合的产物中，起到多大的作用。

目前国内实力最强的光刻机厂商是上海微电子，而在2020年6月份，上海微电子披露了一份消息，将会在2021年-2022年期间，正式对外交付一台28nm制程工艺浸润式光刻机设备，采用的光源为第四代的ArF，波长为193nm，这也意味着我国的光刻机设备将会从90nm工艺时代迈入到28nm工艺时代。

近日，清华大学公布了一份研究成果，宣布已经找到了一种高功率、高重频、窄带宽的相干辐射，波长可覆盖从太赫兹到极紫外（EUV）波段：SSMB光源。功率更大，稳定性更强的SSMB光源，这意味着一旦被成功应用到光刻机上面，那么我们国家将在极紫外光源这一领域有了零到一的突破，这对于我国的光刻机研发意义非凡。

此外上海微电子方面也传来了好消息，那就是我国的光刻机将会迈入到14nm工艺制程时代，而此前中芯国际就掌握了14nm制程工艺芯片量产技术，这也意味着我国的芯片产业链将会达到14nm工艺水准，完全不需要依赖外国技术或者是设备，虽然距离高端7nm、5nm工艺芯片技术，还有着较大的技术差距。

我国从未停下对光刻机的研究和研发，最近也是好消息不断，这极大的鼓舞了民族信心，不管日后是自护研发出来也好还是借鉴改造也好，光刻机作为时代最高科技含量的产物，我国势必将其拿下。