国产光刻机最新进展 其实已经能解决燃眉之急

光刻机作为生产芯片的仪器，一直以来都被称为是现在工业皇冠上的明珠，也是人类能够生产的最精密的机械设备之一，最近清华成立芯片学院的消息冲上了热搜，那么国产光刻机发展的怎么样了呢？今天就跟大家聊一聊。

芯片作为当今时代的工业粮食，使我们日常生活中常用电子设备的大脑，随着华为芯片事件的发酵，和近年来全球公共卫生的严峻，导致很长一段时间以来，芯片竟然供不应求了， 全球电子行业闹起了芯片荒，美方对芯片的制裁，也将原有半导体芯片的国际供应链打乱，严重影响了芯片行业的科技发展。

所以国产光刻机的发展已经到了刻不容缓的地步，近期有消息称，上海微电子将在今年正式推出28纳米光刻机。

据悉，上海微电子推出的光刻机，是目前较为先进的“浸入式”光刻机，在芯片制程中，通过多次曝光、制作，可实现7nm芯片的生产。该光刻机将在今年正式投入生产，这将很大程度上的缓解我国在半导体领域被国外卡脖子的现象。

台积电早在2011年就用上了28纳米工艺技术，但实际上，28纳米制程工艺在制造领域仍有广泛的应用价值，因为对电视和消费电子而言，28纳米工艺芯片已经足以满足需求。再到2023年，上海微电子希望生产出足以用于20纳米制程工艺节点的光刻机，新的光刻机将用日本制造的一些零部件，但不会再用任何美国零部件。

综合以上来看，国产的光刻机已经在来的路上了，而且能够做到在不用任何美国零件的情况下的28纳米制程，其实对于很多行业来说，芯片的制程还是微米级别的，28纳米制程真的已经能够满足至少百分之八十的需要了，相信以中国的技术迭代速度，在摩尔定律失效之前，一定能迎头追上！