光刻机是干什么用的 芯片制造的必须环节

去年，我国芯片的设计和生产被国外封锁，而制造芯片的环节中光刻机是必不可少的一份，但恰恰光刻机这种东西世界上没有几个国家能造的出来。

光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实光刻机除了能用于生产芯片之外，还有用于封装的光刻机，或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前，我国高端的光刻机，基本上是从荷兰ASML进口的。光刻机作为工业制造之花，已经是真正高科技的象征，这个设备非常精密，没有他芯片几乎是制造不出来的。

简单来说，就是在硅片上覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用紫外光透过掩模照射硅片，被光线照射到的光刻胶会发生化学反应。此后用特定显影液去洗硅片上的光刻胶，就完成了把电路图从掩模转移到硅片上的工作，这是制造芯片中的重要一步。

光刻包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面：1、光复印工艺：经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。

2、刻蚀工艺：利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺总是多次反复进行。例如，大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图形的全部传递。

而光复印技术就是光刻机，而刻蚀工艺就是蚀刻机。目前全球最先进的荷兰ASML公司，其在生产光刻机的过程中也需要用大量美国的技术以及美国的供应商，这也是为何美国可以阻止ASML公司将光刻机卖给中国的原因，同样，这也是美国可以阻止全球各大芯片代工厂给中国企业生产芯片的原因，因为这些企业所使用的，大部分都是ASML的机器。

目前光刻机在芯片领域是一个炙手可热的设备，我国芯片发展受阻正是因为没有先进的光科技造成的。