中国能造光刻机吗 技术比你想的要好的多

作为现代工业皇冠上的明珠，光刻机一直以其高度的集成化以及复杂的技术而著称，作为中国工业仅有的几个薄弱环节，中国真的像网上所说的那样，不能生产光刻机吗？这篇文章就跟大家聊聊这个话题。

首先，中国在光刻机方面的起步并不晚，早在20世纪60年代，中国就开始研发光刻机，1965年中国就有了自己的接触式光刻机，1980年清华大学的光刻机就能做到3微米，和当时世界上最先近的制程差距并不大，甚至现在光刻机界的巨头阿斯麦尔都是1984年才成立的，中国光刻机起步其实早了阿斯麦尔二十多年。

但是为什么会出现现在这种局面呢？首先就是中国对于这个领域的不重视，甚至当时很多人都认为，造不如买，买不如租，放弃了自己掌握光刻机技术这条路。其次阿斯麦尔并不是一单纯某个国家的技术，而是很多国家都参与的，国际合作的产物。很多人说中国人不能自主建造光刻机，何止中国？坦白讲，这个世界上没有任何一个国家，可以独立建造出阿斯麦尔最先进制程的光刻机。

那么中国现在还能不能造光刻机呢？答案是，能，而且技术还不算差。和很多人的认知不同，其实大多数的芯片制程要求都没有那么高，所谓的7纳米也罢5纳米也罢，都是类似手机电脑这种，对制程比较敏感的消费电子产品才用的到。很多的低端芯片，用的都是微米级的光刻机，而这种光刻机其实国产早就有了。

甚至纯国产的28纳米光刻机，也在上海微电子所下线了。28纳米是一个分水岭，意味着绝大多数的芯片我们都可以自己制造，就算是手机电脑之类的芯片，28纳米工艺制程也都堪用！而且28纳米可以纯国产化，有了DUE就会有EUV，它的迭代工艺就会是7纳米工艺，到了7纳米这个水平，就不着急了，慢慢发展就是。毕竟摩尔定律也已经逼近了极限，而新一代的半导体工艺还没有出来。

综合以上信息，我国进口的和自己生产的芯片中，制程绝大多数都是28纳米以下的，虽然国产28纳米光刻机还在调试阶段，距离投入芯片生产还有一到两年的时间，而且刚投入生产，良品率也不会高。但是这些都不是问题，只要中国坚持研发投入，早晚能吃下这个世界上最赚钱的行业之一！