南大光电背靠南京大学,有很大的人才和研发优势,目前南大光电的主要两个产品取得了瞩目的成就,下面来了解一下,MO源和光刻胶。
南大光电在MO源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平,主要产品有三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝等,产品的纯度大于等于6N,可以实现MO源产品的全系列配套供应。并且自主创新和产业化的 193nm 光刻胶项目。
南大光电的经营范围包括:-般项目∶光电子器件制造;光电子器件销售;电子元器件制造;集成电路芯片及产品销售;半导体照明器件制造;电力电子元器件制造;电子专用材料销售;半导体照明;电子专用材料制造;集成电路芯片及产品制造;电子专用材料研发;技术开发、技术咨询等。
MO 源即高纯金属有机化合物,是现代化合物半导体产业的支撑源材料。MO 源是制备LED 外延片的核心原材料,目前大多数MO 源都被用于LED 产业。此外,MO 源还被应用于新一代太阳能电池,薄膜非晶硅太阳能电池,相变存储器,半导体激光器,射频集成电路芯片及其他化合物半导体领域。
南大光电在MO源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平,主要产品有三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝等,产品的纯度大于等于6N,可以实现MO源产品的全系列配套供应,在激烈的市场竞争中,具有一定优势。
光刻胶是光刻过程中必不可少一个要素。光刻胶作为半导体工艺制程中最为核心的原材料,技术门槛极高,高端产品由日本JSR、TOK 等长期垄断。
据南大光电公告介绍,公司研发得ArF光刻胶产品可以用于90nm-14nm甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 AI 芯片、5G 芯片、大容量存储器和云计算芯片等)。
除此之外,南大光电还有电子特气和ALD前驱体等产品,广泛应用于电子行业。
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